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CVD真空氣相沉積設備
CVD真空氣相沉積設備
最新設備
LPMS CVD05
緊湊型側式真空氣相沉積設備
真空氣相沉積設備是一種用于電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過升華、熱解后進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料薄膜涂層。
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LPMS CVD12
側式真空氣相鍍膜設備
真空氣相沉積設備是一種用于電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物(長鏈性高分子材料,一般為派瑞林Parylene)、單質氣體經過升華、熱解后進入放置產品的真空反應室,借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻,無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防霉、防腐、防鹽霧涂層材料薄膜涂層。
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