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CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜

CVD真空氣相鍍膜

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CVD真空氣相設備

最新設備

LPMS CVD05
緊湊型側式真空氣相沉積設備

真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物（長鏈性高分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻，無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料薄膜塗層

LPMS CVD12
側式真空氣相鍍膜設備

真空氣相沉積設備是一種用於電子產品防水保護的鍍膜設備。工作時把含有構成薄膜元素的化合物（長鏈性高分子材料，一般為派瑞林Parylene）、單質氣體經過昇華、熱解後進入放置產品的真空反應室，借助空間氣相化學反應, 在產品表面上沉積生成0.1-100um的厚度均勻，無應力、優異的電絕緣性和防護性、防潮、防黴、防腐、防鹽霧塗層材料薄膜塗層

CVD真空氣相設備

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