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    CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
    真空氣相沉積材料

           CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名:派瑞林、聚對二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下氣相沉積,活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部,周圍形成無針孔,並厚度均勻的透明絕緣塗層,給元件提供了一個完整的優質防護塗層,抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害,因為所使用的不是液體,所以塗敷過程中不會聚集,橋接式形成彎月面。

          Parylene派瑞林高分子材料根據分子結構可分為: N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據客戶技術要求與產品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料,並給於專業的技術指導。

    1535791635366673.jpg

    派瑞林牌號

    成膜特性

    CAT

    N

    CAT

    C

    CAT

    D

    CAT

    F(VT4)

    CAT

    AF4(HT)

    密度(gm/cc)

    1.1

    1.3

    1.41

    1.55

    1.5

    介電常數(1Mhz)

    2.6

    2.9

    2.8

    2.3

    2.2

    介電強度(V/Mil)

    7000

    5600

    5500

    5000

    7000

    最低持續工作溫度(空氣中)

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    -60°C

    最高持續工作溫度(空氣中)

    60°C

    80°C

    110°C

    200°C

    300°C

    摩擦係數-動態

    0.25

    0.29

    0.38

    0.39

    0.16

    線性膨脹係數(ppm at 25°C)

    69

    35

    38

    45

    34

    吸水性(24H後)

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    <% 0.1

    水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

    0.6

    0.08-0.1

    0.1

    0.25-0.32

    0.2

    氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

    16

    3

    12.0-13.5

    16.8

    25.3

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